中水回用常见问题

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半导体中水回用设备工艺

2020-08-14 14:08

  针对半导体生产中水,提供完整的中水处理方案,中水回用设备方案。系统通过膜生物反应器和三级处理系统,对半导体中水进行处理,使之达到新的严格的环境规定,不仅能有效地节约有限的水资源,而且能减少污水的排放,具有良好的经济效益。

  半导体生产中水主要来自车间的镀槽、清洗水等,中水中含有的主要污染物有:Ag、Cu、Ni、COD、SS、CN、酸碱等。半导体生产中水排放量大,中水污染物种类多,成份复杂,尤其是溶解固体和悬浮固体在含量、酸碱度和金属杂质方面的差异,使半导体中水回用对常规技术处理造成了挑战。

半导体中水回用设备
半导体中水回用设备

  半导体中水回用设备工艺特点:

  1、三低一零

  本系统淤泥产出量低、臭气产出量低、能量需求量低,化学品需要量较小或为零。

  2、资源利用

  经本系统处理后的回用水,满足严格的工厂回用水品质要求,可供应纯水系统或直接回用到生产线。

  3、性价比高

  本系统操作便捷,抗冲击负荷,占地紧凑,稳定性高,运转成本低,经过大量成功案例验证。

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