中水回用常见问题

主页 > 中水回用常见问题 >

半导体废水回用设备拥有哪些特点?

2021-03-03 09:26

  半导体生产废水主要来自车间的镀槽、清洗水等,废水中含有的主要污染物有:Ag、Cu、Ni、COD、SS、CN、酸碱等。半导体生产废水排放量大,废水污染物种类多,成份复杂,尤其是溶解固体和悬浮固体在含量、酸碱度和金属杂质方面的差异,使半导体废水回用对常规技术处理造成了挑战。采用莱特莱德Neterfo极限分离系统对半导体废水进行处理,使之达到新的严格的环境规定,不仅能有效地节约有限的水资源,而且能减少污水的排放,具有良好的经济效益。

  Neterfo极限分离系统的特点:

  1、Neterfo极限分离系统是在反渗透的基础上发展而来的,具有运行压力低、通量大的优势,适用于中水回用的系统使用。

  2、Neterfo极限分离系统针对高盐水浓缩而设计,结合大错流PON耐污染技术和POM宽流道高架桥技术等多种技术手段,运行压力可达120bar,适用于高盐度废水及各种高浓度水性物料的高倍数浓缩处理,系统回收率达80%以上。

  3、Neterfo极限分离系统通过震动技术增大膜表现的剪切力,可防治膜表面沉积污染,实现较高流速,处理较高污染因子含量中水,实现进一步浓缩和更高的回收率,且系统内设置微波能量回收装置,能量回收效率高达98%,模块化设计让Neterfo极限分离系统操作更加灵活。

  以上就是关于半导体废水回用设备特点的介绍,想要了解更多关于中水回用技术的相关问题与资讯,欢迎关注我们的网站。莱特莱德业务主要包括给水处理、废水处理、中水回用、近零排放、废水分盐、生活污水处理等环保领域的工程设计、工程承包、安装及运行管理,同时提供具有先进水平的特种膜浓缩、废水处理工艺技术和设备。莱特莱德拥有一系列实用性的解决方案,应用于各类高难废水回用及近零排放,确保处理满足需求。